2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会参展范围

2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会参展范围
◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；
◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；
◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等；

2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会基本信息
时间：2023年11月22-24日
地点：上海新国际博览中心

ASML宣布加快向中国出售光刻机，这为中国半导体产业的自主创新和自主制造提供了机遇，同时也暴露出了中国半导体行业依赖进口光刻机的问题。要想避免对外部光刻机的依赖，关键在于加大自研力度、技术合作、与国内科研机构和高校的合作、加强与光刻机零部件生产商和设备制造商的合作，从而提高中国半导体制造能力和技术水平，逐步实现自主创新和自主制造。